Российские ученые завершили этап научно-исследовательских работ по созданию отечественного многолучевого электронного литографа — установки, которая в перспективе сможет использоваться для производства микросхем с технологическими нормами вплоть до нескольких нанометров. Об этом сообщают «Известия».
На сегодняшний день специалисты завершили исследования и подготовили проект будущей установки. Следующим этапом станут опытно-конструкторские работы, а первый опытный образец, по оценкам разработчиков, может появиться примерно через три года.
Главное отличие новой системы от традиционных электронных литографов заключается в принципе работы. Если существующие установки используют один электронный луч, то российская разработка основана на технологии мультикатода, формирующей сразу множество независимых электронных лучей. Благодаря этому экспонирование кремниевых пластин должно происходить значительно быстрее.
В России создана технология многолучевой литографии, которая увеличит производительность при выпуске чипов примерно в 3000 раз
Российские ученые разработали технологию производства отечественного многолучевого литографа. Он будет в тысячи раз производительнее обычного однолучевого и дешевле импортного многолучевого. Его можно будет применять для выпуска передовых микросхем по топологии в несколько нанометров. Главное, чтобы, пока в России начнется выпуск таких установок, мировые технологии не успели уйти слишком далеко вперед.
Ученые в России при поддержке НТИ завершили научно-исследовательские работы для создания многолучевого электронного литографа, выяснили «Известия».
Что пишут другие издания
- CNews: В России создана технология многолучевой литографии, которая увеличит производительность при выпуске чипов примерно в 3000 раз
